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  • 发货地  广东 东莞市
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  • 公司地区|广东/东莞市
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有效期至长期有效 最后更新2020-05-15 14:45
材质铸钢 产地镀膜一氧化硅靶SiO价格

镀膜一氧化硅靶SiO价格

材质 铸钢
产地 镀膜一氧化硅靶SiO价格
牌号 镀膜一
品牌 万方精铸
打样周期 镀膜一氧化硅靶SiO
成型工艺 镀膜一氧化硅靶SiO信息


东莞市鼎伟靶材有限公司是专业生产高纯金属材料,蒸发镀膜材料以及溅射靶材的高新技术企业应用开发的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以青岛大学和青岛科技大学蒸发材料专业为技术依托,拥有多名中高级专业技术人员和专业化应用实验室,具有很强的蒸发材料开发能力。公司先后研发的蒸发材料、溅射靶材系列产品广泛应用到国内外众多知名电子、太阳能企业当中,以较高的性价比,成功发替代了国外进口产品,颇受用户好评。

镀膜一氧化硅靶SiO价格

东莞市鼎伟靶材有限公司

联系人:肖先生

手机:18681059472           

电话:0769-88039551

网站://www.bacai168.com   www.bacai168.com 

邮箱:dingwei586@126.com 

地址:东莞市南城区民间金融大厦

公司主要经营产品: 

一、真空镀膜材料 

1.高纯真空溅射靶材(99.9%——99.999%)

高纯金属靶材:锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、铟靶、硼靶B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶 Si、钽靶 Ta、锌靶Zn、镁靶Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、钴靶Co、铁靶Fe、锗靶Ge、铪靶Hf、铅靶Pb、镍靶Ni、银靶Ag、硒靶Se、铍靶Be、碲靶Te、不锈钢靶材S.S等……

 

多元合金靶材: 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……

 

陶瓷溅射靶材:ITO靶、单晶硅靶、多晶硅靶、一氧化硅靶SiO、二氧化硅靶SiO2、二氧化钛靶TiO2、氧化锆靶ZrO2、二硼化钛靶TiB2、氧化镁靶MgO、碳化硼靶BC、氮化硼靶BN、碳化硅靶SiC、三氧化二钇靶Y2O3、五氧化二钒靶V2O5、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS、硫化钼靶MoS、硫化钨靶WS、氧化锌铝靶ZAO、氧化铝靶Al2O3、钛酸锶靶SrTiO3、五氧化二钽靶Ta2O5、五氧化二铌靶Nb2O5、氧化锌镓靶ZGO、氧化锌硼靶ZBO、砷化镓靶GaAs,磷化镓靶GaP,硒化锌靶、锰酸锂靶、镍钴酸锂靶、钽酸锂靶,铌酸锂靶、等… 

 

稀土金属靶:镧靶、铈靶、镨靶、钕靶、钐靶、铕靶、钆靶、铽靶、镝靶、钬靶、铒靶、铥靶、镱靶、镥靶、钇靶等… 

 

稀土氧化物靶:氧化镧靶、氧化铈靶、氧化镨靶、氧化钐靶、氧化铕靶、氧化钕靶、氧化钆靶、氧化铽靶、氧化镝靶、氧化钬靶、氧化铒靶、氧化铥靶、氧化镱靶、氧化镥靶 

金属膜电阻器用Ni-Cr-Si/ Ni-Cr-Mn-Cu溅射靶材:

金属膜电阻器用靶材包括高阻系列(ZYG)、中阻系列(ZYZ)和低阻系列(ZYC)、超低阻系列(ZYCD)。

 

2.高纯光学镀膜材料(99.99%——99.999%)

氧化物:一氧化硅、二氧化硅、一氧化钛、二氧化钛、三氧化二钛、五氧化三钛、二氧化锆、二氧化铪、二氧化铈、二钛酸镨、三氧化钨、五氧化二钽、五氧化二铌、三氧化二钪、三氧化二铝、三氧化二铟、氧化镱、氧化锌、氧化镁、氧化钆、氧化钐、氧化钕、氧化钙、氧化镨、氧化铋、氧化铬、氧化镍、氧化铜、氧化铁、氧化钒等… 

氟化物:氟化镁、氟化钙、氟化钕、氟化镧、氟化镱、氟化钇、氟化铒、氟化钐、氟化镝、氟化铈、氟化钡、氟化锶、氟化钾、氟化钠等… 

硫化物:硫化锌、硫化钼、硫化钙、硫化锑、硫化铁、硫化钠等…T18919837845(不是联系方式)




磁控溅射镀膜是一种物理气相镀膜方式,现技术已较为成熟,主要应用于以下领域:装饰薄膜靶材,建筑玻璃、汽车玻璃、低辐射玻璃,平面显示器,光通讯/光学工业,光数据存储工业,光数据存储工业,磁数据存储工业磁控溅射原理  在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场,在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar氩气),永久磁铁在靶材料表面形成250~350高斯的磁场,同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下,Ar气电离成正离子和电子,靶上加有一定的负高压,从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大,在阴极附近形成高密度的等离子体,Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面,以很高的速度轰击靶面,使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种:支流溅射和射频溅射,其中支流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电材料外,也可溅射非导电的材料,同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射

 




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【原创内容】
和背靶避免在运输和储存过程中发生损坏。一、溅射准备保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的。任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,物覆盖面积增加。在一定功率的情况下,参与化合物生成的反应气体量增加,化合物生成率增加。如果反应气体量增加过度,化合物覆盖面积增加,如果不能及时调整反应气体流量,化合物覆盖面积增加的速率得不到抑制,溅射沟道将进一步被化合物覆盖,当溅射靶被化合物全部覆盖的时候,靶完全中毒一、背靶材料无氧铜(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料属钼作为背靶材料。不锈钢管(SST)–目前最常使用不锈钢管作为旋转靶材的背管,因为不锈钢管具有良好的强度和导热性而且非常经济二、背靶重复使用大部分背靶可以重复使用,尤气体(氩气或氧气)必须清洁并干燥,溅镀腔内装入基材后便需将空气抽出,达到工艺所要求的真空度。暗区屏蔽罩,腔体壁及邻近表面也需要保持洁净。在清洗真空腔体时我们建议采直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性。短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学杂质含量超标经常是由于不洁净的溅射室、溅射枪和靶材引起的。为保持镀膜的成分特性,溅射清洁。第四步在清除完有污垢的区域后,再用高压低水气的氩气冲洗靶材,以除去所有可能在溅射系统中会造成起弧的杂质微粒三、靶材安装靶材安装过程中最重要的注意事项是一定

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公司名 东莞市鼎伟新材料有限公司 经营模式
注册资本未填写 公司注册时间
公司所在地广东/东莞市 企业类型企业单位 ()
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